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净化知识

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电子半导体车间空气过滤器解决方案_磊建净化

发布者:磊建净化

发布时间:2021-11-16

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  电子半导体车间空气过滤器解决方案半导体车间空气净化工程目标是建立一个洁净无尘的工作环境,防止空气中的微粒子、有害空气、细菌等。半导体生产流水线上的半成品和成品造成污染,传统的通风形式是在车间的整个天花板上布满高效过滤器,整个地面为回风栅板。如今AstroFan FFU风机过滤单元使用自带风机的过滤装置,解决了繁复的安装和性价比问题,是目前市场上一种最安静、价格优良的机组,为洁净室输送高质量的循环空气。


电子半导体车间空气过滤器解决方案_磊建净化


  领先的晶圆设备,微粒过滤和控制AMC是必须的。微粒过滤和控制AMC是高收益、低退货率的半导体产业首要担心的问题。不能很好的在洁净室或设备中控制微粒或AMC将大大的削弱企业的经营利润。洁净室的最主要的问题是产品、工具、加工过程和气味控制的污染 。


半导体车间空气净化通常由:初效过滤器/中效过滤器/高效过滤器三级空气过滤的空调送风回风和 排风系统、动力及照明系统、工作环境参数的监测报警消防、通讯系统、人流和物流系统、工艺管路系统等部分组成。


  传统的通风形式是在车间的整个天花板上布满高效过滤器,整个地面为回风栅板。如今AstroFan FFU风机过滤单元使用自带风机的过滤装置,解决了繁复的安装和性价比问题,是目前市场上一种最安静、价格优良的机组,为洁净室输送高质量的循环空气。


  用 途: 半导体车间空气净化工艺广泛应用于硅电子、收音机、电视机、电脑、家用电器等行业生产车间的空气净化。  


  通过用于高级半导体制造的完整解决方案来提高工艺良率。


  在半导体生产车间中,微污染会带来巨大的问题。磊建净化提供了广泛的解决方案-颗粒预过滤器,HEPA和ULPA过滤器以及AMC控制解决方案-可以将无尘室中的颗粒物和分子浓度降低到颗粒物的lSO1级水平和AMC的亚ppb水平。


  AMC过滤器和控制比无尘室过滤更重要


  空气传播的分子污染(AMC)对小尺寸半导体制造提出了特殊挑战。酸,碱,有机物,耐火材料和掺杂剂的不良化学反应会影响晶片表面和工艺设备的光学器件,从而在芯片生产过程中产生缺陷,并降低设备和工具的效率。


  在关键的洁净室制造过程中,AMC越来越重要。随着规格要求的提高和设备尺寸的缩小,过程控制面临巨大的压力。晶圆可以在工厂内呆上一个月的时间,在交付最终产品之前要经过数百个过程。该工艺链中任何微小的污染影响都可能对晶圆厂的整体成品率造成严重影响。


  另一个挑战在于更大尺寸的晶圆的普遍化,这增加了单个晶圆的成本,并增加了在工具级别对纳米颗粒和AMC保护的需求。此外,EUV和多图案DUV光刻中使用的无缺陷掩模的成本不断上涨,这给设施以及小型环境(如检查设备和掩模库存机)的污染控制系统带来了压力。


  保护您的工艺设备和晶圆免受纳米颗粒和空气中的分子污染物的侵害


  磊建净化解决方案在半导体制造环境中提供了经过现场和实验室验证的保护,包括光刻,蚀刻,扩散,金属化,薄膜,离子注入,检查工具以及标线片或晶圆存储区。


  工艺工具空气滤清器


  洁净室空气过滤器扫描仪预过滤系统


  设施系统的节能高效排气解决方案


  颗粒物预过滤器系列可确保在补充空气


  处理机组中使用最低的能量,同时防止HEPA过滤器堵塞并且不释放硼。经过多年的胶粘剂和介质化学性能的发展,磊建净化的HEPA和ULPA过滤器旨在释放出尽可能少的有机污染物(所谓的低放气)。用于晶圆切割的排气系统以及用于通用排气备用系统的气体洗涤器可以保护环

境免受工艺污染。


  无硼合成预滤器低能量预过滤器


  低放气的HEPA和ULPA过滤器


  灰尘收集器和气体洗涤器,可产生更清洁的废气


  总之如今的电子半导体车间空气过滤器解决方案半导体车间空气净化工程目标是建立一个洁净无尘的工作环境,防止空气中的微粒子、有害空气、细菌等。半导体生产流水线上的半成品和成品造成污染,传统的通风形式是在车间的整个天花板上布满高效过滤器,整个地面为回风栅板。如今AstroFan FFU风机过滤单元使用自带风机的过滤装置,解决了繁复的安装和性价比问题,是目前市场上一种最安静、价格优良的机组,为洁净室输送高质量的循环空气。


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